関西大学システム理工学部 機械工学科

ロボット・マイクロシステム研究室

Nanoscribe True 3D Laser Lithography


仕様(objective 63x, NA=1.4)

ナノスクライブ社のレーザ3次元造形システムを導入しました。
装置の仕様は以下の通りです。

3D lateral feature size (IP-Dip) 200 nm; typically 150 nm
2D lateral resolution (IP-Dip) 500 nm; typically 300 nm
Vertical resolution (IP-Dip) 1000 nm; typically 800 nm
piezo range 300 x 300 x 300 μm3
writing speed piezo mode typ. 100 μm/s
accessible writing area up to 100 x 100 mm2

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装置画像

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