応用物理研究室業績リスト（H1６年4月1日～H1９年３月31日）

学術論文（査読あり）
（2004年）
(1) T.Shimizu, N.Nagayanagi, Y.Fujii, O.Yaegashi, G.R.Wu, H.Sakaue, T.Takahagi, S.Sakata,
H. Kusaka, and S.Shingubara,
"Formation of ultra high density ferromagnetic column arrays beyond 1 Tera/inchi2 using porous alumina template "
Transaction of Magnetic Society of Japan, 4, 231-234 (2004).
(2) H.Sakaue, T.Taniguchi, Y.Okamura, S.Shingubara, and T.Takahagi,
"Wet treatment for preparing atomically smooth Si(100) wafer surface"
Applied Surface Science, 234 (2004) 439-444.
(3) S.Shingubara, K.Morimoto, H.Sakaue, and T.Takahagi,
"Control of Self-Organization Conditions of Porous Alumina Film Using a Mixture of Oxalic Acid and Sulfuric Acid" , Electrochemical and Solid-state Letters, 7 (3): E15-E17 (2004).
(4) Huang S, Minami K, Sakaue H, Shingubara S, Takahagi T,
"Effects of the surface pressure on the formation of Langmuir-Blodgett monolayer of nanoparticles "
Langmuir, 20 (2004) 2274.
(5) S.Shingubara, K.Morimoto, M.Nagayanagi, T.Shimizu,O.Yaegashi, G.R.Wu, H.Sakaue, T.Takahagi and K.Takase
"Aspect Ratio Dependence of Magnetic Hysteresis Property of High Density Co Wire Array Buried In Porous Alumina Template" ,
J. Magnetics and Magnetic Materials, 272-276, Part2. (2004) 1598-1599.
(6) Z. Wang, O. Yaegashi, H. Sakaue, T. Takahagi, and S. Shingubara
" Effect of Additives on Hole Fill Property in Electroless Copper Plating"
Jpn.J.Appl.Phys.vol.43-10, 7000-7001, (2004)..
(7) Z. Wang, O. Yaegashi, H. Sakaue, T. Takahagi, and S. Shingubara
"Bottom-up fill for Submicrometer Copper Via Holes of ULSIs By Electroless Plating"
J of Electrochemical Society, 151 (12) , C781-C785 (2004).
(8) S.Shingubara, Z.Wang, S.Yaegashi, R.Obata, H.Sakaue, and T.Takahagi
"Bottom-up fill of Cu in deep submicron holes by electroless plating",
Electrochem. Solid-State Lettters, 7 (2004) C78-C80.
(9) Susumu Tamura, Yasuhisa Omura and Sumio Nakahara,
"Effect of Silicon Addition on Electrical Properties of SrBi2Ta2O9 Thin Films"
Jpn. J. Appl. Phys., Vol.43, No.11B,7871-7875,(2004)
(10) Junichi Takahashi, Sumio Nakahara, Shigeyoshi Hisada, Takeyoshi Fujita
"Laser Soldering of Sn-Ag-Cu and Sn-Zn-Bi Lead-free Solder Paste"
Proceedings of SPIE, Vol. 5662, 355-360,(2004)

（2005年）
(1) T.Hanabusa,K.Kusaka, S.Shingubara, and O.Sakata
"In-situ observation of thermal stresses in nano-size Thin Aluminum Films"
Materials Science Forum 490-491, (2005) pp.577-582.
(2) S. Huang, T. Shimizu, H. Sakaue, S.Shingubara and T. Takahagi
"Fabrication of Carbon Nanotube and Nanorod Arrays Using Nanoporous Templates
Japanese Journal of Applied Physics, 44-7A, (2005), pp.5289-5291
(3) M.Nakano, H. Kotaki, K. Ohta and S. Shingubara
"Epitaxial Silicon Growth by Load-Lock Low Pressure Chemical Vapor Deposition System for Elevated Source/Drain Formation"
Japanese Journal of Applied Physics, 44-1 (2005), pp.1-4.
(4) H. Miya, S. Shingubara, H. Sakaue and T. Takahagi
"Contact Resistance Reduction Using Vacuum Loadlock System and Plasma Dry Cleaning" Japanese Journal of Applied Physics 44-6A, (2005), pp.3860-3863
(5) Z.Wang(Shannxi Normal University, China), H.Sakaue, T.Takahagi (Hiroshima University), and S.Shingubara,
"Characterization of Electroless-Plated Cu Film over Pd Catalytic Layer Formed by an Ionized Cluster Beam", J. Electrochem Soc. 152 (10) C684-687 (2005)

（2006年）
(1) Z.Wang, R.Obata, H.Sakaue, and T.Takahagi, and S.Shingubara,
"Bottom-up copper fill with addition of mercapto alkyl carboxylic acid in electroless plating"
Electrochimica Acta 51 (12), pp. 2442-2446 (2006)
(2) T.Shimnizu (Hiroshima Univ.),M.Nagayanagi (Hiroshima Univ.), T.Ishida (Hiroshima Univ.), O.Sakata (JASRI),T.Oku (Osaka Univ.), H.Sakaue (Hiroshima Univ.),T.Takahagi (Hiroshima Univ.), and S.Shingubara, "Epitaxial growth of Cu nanodot arrays using an AAO template on a Si substrate,", Electrochemical and Solid-State Letters 9 (4), pp. J13-J16 (2006).
(3) T.Hanabusa (Tokushima Univ.), K.Kusaka (Tokushima Univ.), S.Shingubara, and O.Sakata (JASRI), "Thermal Stress Behavior in Nano-size Thin Aluminum Films", International J. of Modern Physics B, 20, 4691-4696 (2006).

国際会議発表
（2004年）
(1) S.Shingubara, K,Oshima, H.Ting and T.Ishida,
"Pulsed DC and AC Electromigration Studies of Cu Dual damascene Interconnects"
AIP Conf. Proc. 741, 180-187, (2004)
(2) Z.Wang, O.Yaegashi, H.Sakaue, .Takahagi, and S.Shingubara,
"Formation of 10 nm Continuous Cu Film in a Fine Hole by Electroless Plating for Seed Layer Application",Proc. of Advanced Metallization Conference 2003, Mat.Res.Soc.Symp.Proc. AMC XIX, (2004) pp.567-572.
(3) Y. Fujii, T. Shimizu, M. Hosoda, S. Huang, H. Sakaue, T. Takahagi, and S. Shingubara
"Large Negative Resistance Property Observed in 3-D Network of DNA and Gold Nanoparticle Formed by DNA Mediated Self-organization "
International Conf. on Solid State Devices and Materials, 2004, Tokyo, pp.114-115.
(4) T. Shimizu, M. Nagayanagi, T. Hao, H. Sakaue, T. Takahagi and S. Shingubara
"Growth of cobalt nano column arrays directly on Si(111) substrate using AAO template"
　International Confernce of Microprocess and Nanotechnology (MNC) 2004, Osaka, pp.pp.298-299.
(5) S.Shingubara,
"Fabrication of ordered array of nanomaterials by self-organization methods"
International Workshop on Relativistic Channeling and Related Coherent Phenomena, Frascati, Italy, 2004. , Invited paper.
(6) S. Shingubara, T. Shimizu, M. Nagayanagi, O. Yaegashi, G. R. Wu, and T.Takahagi
"Formation of Ultra High Density Ferromagnetic Column Arrays Beyond 1 Tera Bit/inch2 by Porous Alumina Template", MORIS 2004, (Magnetic Optical Recording International Symposium) , Yokohama, 2004/04/07 ,invited paper
(7) S. Shingubara T. Shimizu, K. Morimoto, M. Nagayanagi, Y. Fujii, O. Yaegashi, G. R. Wu,
H. Sakaue, and T. Takahagi, "Formation of Ultra High Density Ferromagnetic Column Arrays Beyond 1 Tera Bit/inch2 by Porous Alumina Template".
MMM/Intermag Joint Conference, (2004) USA.
(8) Sumio Nakahara, Yoshihiro Okino, Masaaki Takita, Takeyoshi Fujita
"Laser micro-marking of a thin metallic film in a resin"
Photonics ASIA: The conference of the Lasers in Material Processing and Manufacturing II, Beijing、China, Nov., 2004
(9) Sumio Nakahara, Junichi Takahashi, Jun Nakaichi , Shigeyoshi Hisada, Takeyoshi Fujita
"Fabrication of DOE using direct write lithgraphy system, Photonics ASIA"
The conference of the Holography, Diffractive Optics, and Applications II, Beijing、China, Nov., 2004

（2005年）
(1) Z.Wang, R.Obata, O.Yaegashi, T.Hao, H.Sakaue, T.Takahagi and S.Shingubara
"Formation of Damascene Interconnections and Its Electrical Characteristics by Bottom-up Electroless Cu plating", Proc. of Advanced Metallization Conference 2004,
Mat.Res.Soc.Symp.Proc. AMC XX, (2005) pp.299-304.
(2) S. Shingubara, and Z.Wang ((Shaanxi Normal University, China))
　 "Bottom-up Electroless Copper Plating for ULSI interconnections"
4th International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials (EPTM2005,October)
(3) T.Ishida, T.Shimizu, H.Sakaue, T.Takahagi,S.Hisada, S.Nakahara, T.Fujita, and S.Shingubara
"Growth of diameter controlled CNTs by catalytic CVD using porous alumina template"
4th International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials
(EPTM2005,October)
(4) T. Shimizu, T. Ishida, H. Sakaue and T. Takahagi, O. Sakata ,and S. Shingubara
"Preparation of nano-sized template using AAO nanoholes for growth of epitaxial nanocolumn arrays",
4th International Symposium on Electrochemical Processing of Tailored Materials (EPTM2005,October)

（2006年）
(1) S.Shingubara and Z.Wang (Shaanxi Normal University, China)
"Formation and film characteristics of dual damascene interconnects by bottom-up electroless plating"
American Institute Proceedings vol.817, 8th Intern.Workshop on Stress-induced Phenomena in metallization, (2006), pp.13-22.
(2) S. Shingubara, Y. Fujii (Hiroshima Univ.), M.Hosoda (Hiroshima Univ.), and T. Takahagi (Hiroshima Univ.),"Large Negative Resistance Observed in 3-D Network of DNA and Gold Nanoparticle Formed by DNA Mediated Self-organization", International Conference on Nanoscience and Nanotechnology (Nano9), Switzerland, Basel, 2006.7.31～8.4.
(3) S.Shingubara, T. Ishida(Hiroshima Univ.), T.Shimizu(Hiroshima Univ.), and T.Takahagi (Hiroshima Univ.),"Diameter controlled CVD growth of CNTs using AAO template on Si substrate with Ni silicide catalyst, International Conference on Nanoscience and Nanotechnology (Nano9), Switzerland, Basel, 2006.7.31～8.4.
(4) ICMNE2006 (The 7th Intern.Conf. on Nano-Molecular Electronics) 2006.12.13-15
"Diameter controlled CVD growth of CNTs using AAO template　on Si substrate with Ni silicide catalyst"
S.Shingubara, T. Ishida*, T.Shimizu*, and T.Takahagi
(5) ICMNE2006 (The 7th Intern.Conf. on Nano-Molecular Electronics)2006.12.13-15
"Fabrication of Nanohole Arrays in Anodized Aluminum Oxide with Gold at the bottom as templates t toward one dimensional organic nanostructures"
K. Ogata, S. Shingubara1, H. Yorozu and T. Nakanishi
(6) Materials Research Society Fall Meetings 2006
"Electroplating of ZnO Nanowires using nanohole Array of Anodized Aluminum Oxide and Effects of Thermal Annealing"
K.Ogata, S.Shingubara, H.Yorozu, and T.Nakanishi
(7) Y.Harada, S.Tanaka（NICT, and S.Shingubara,
"Comparison of grain growth characteristics and film properties of copper films formed by　various methods", Advanced Metallization Conference Japan &Asia Session 2006, 2006.9.25
(8) Sumio Nakahara, NaoshiIkemoto, Shigeyoshi Hisada, Shoso Shingubara, Takeyoshi Fujita,
"Fabrication of high diffraction efficiency HOEs by the use of laser direct write lithography system"
SPIE Photonics West 2007, CONFERENCE 6488, Practical Holography XXI, San Jose, USA, Jan., 2007.
(9) Sumio Nakahara, Takeyoshi Fujita, Takashi Tsuchitani(Opticom Research Ltd.), Hisaharu Tottori(Hanshin Express Way Corp.),
"Fabrication of color holographic optical elements using laser direct write lithography system",
7th International Symposium on Display Holography, North Wales, UK, July, 2006
(10) Shinpei Katou, Sumio Nakahara, Shigeyoshi Hisada, Takeyoshi Fujita, Syoso Singubara,
"Laser Marking of Thin Metallic Film in a CD-ROM Medium",
Proceedings of the 4th International Congress on Laser Advanced Materials Processing, #06-97, 1-4, May, 2006
(11) Tetsuya Eitoku, Sumio Nakahara, Takeyoshi Fujita, Syoso Shingubara, Shigeyoshi Hisada,
"Effect of pre-heating of Pb-free solder pastes in laser soldering",
Proceedings of the 4th International Congress on Laser Advanced Materials Processing, #06-108, 1-4, May, 2006
(12) Sumio Nakahara, Takuto Kawahara, Shigeyoshi Hisada, Shoso Shingubara, Takeyoshi Fujita, Takashi Tsuchitani, and Hisaharu Tottori
"Fabrication of holographic optical elements"
SPIE Photonics West 2006, CONFERENCE 6136, Practical Holography XX, San Jose, USA, 2006.

総説・解説・紀要・その他の印刷物
（著書、分担執筆）「金属微細配線におけるマイグレーションのメカニズムと対策」
　　　監修者　新宮原正三、　サイエンス＆テクノロジー（2006）
（著書、分担執筆）　「めっき最新技術～メカニズムの考察と品質向上～」
第4章3節　「無電解めっき技術」　技術情報機構（2006年）
（著書、分担執筆）「塗工・成膜における密着・接着性の制御とその評価」
第6章5節　「電解・無電解めっきにおける銅製膜・配線の形成と密着性向上法」
　　　　　　技術情報協会2005年5月

・日経ナノテク記事　2005年11月　「自己組織化ナノホールを用いた超高密度磁気記録」
・新聞発表　日刊工業新聞　2006年3月16日　「ハードデイスクの超高密度化実現へ」
・Sumio Nakahara, Seiji Aoyagi, Norio Tagawa, Yasuhiko Arai, Kiyoshi Bando, Susumu Tamura, and Tsutomu Tajikawa,
"Development and Application of an Ultra-miniaturized Blood Collecting /Testing System by MEMS"
Technology Reports of Kansai University, No.49, March 2007
・日刊工業新聞，31面，2006年7月27日
中原住雄、藤田武良、「小さな空間に大きく表示"ホログラフィ活用"」，
・ Sumio Nakahara, Jun Nakaichi , Takuto Kawahara, Shigeyoshi Hisada, Takeyoshi Fujita, Takashi Tsuchitani, and Hisaharu Tottori ,
"Fabrication of large CGH using direct write lithgraphy system", HODIC　CIRCULAR，Vo.l. 25, No.4 , pp.8-11(2005)、

国内学会発表など
（2004年）
（日本機械学会）
・日本機械学会関西支部第79期定時総会講演会講演論文集No.044-1,8-21～22 (2004.3)
「レーザ干渉法を用いた衝撃波プラズマの電子密度の空間分布測定」岩本昌之、藤田武良、
中原住雄、久田重善
・日本機械学会関西支部第79期定時総会講演会講演論文集 No.044-1,10-39～40 (2004.3)
「実時間ホログラフィ干渉法による水中超音波波面の可視化と音圧分布測定－軸対称音場の場合－」前田光明、久田重善、中原住雄、藤田武良
・日本機械学会2004年度年次大会講演論文集，Vol. 4, pp. 341-342, 2004年9月
　「ホログラフィック光学素子による多点同時はんだ付け」
　　高橋淳一、中原住雄、久田重善、藤田武良
・日本機械学会2004年度年次大会講演論文集，Vol. 4，pp. 343-344, 2004年9月
　「レーザ直接描画装置を用いた大型回折光学素子の作製」
　　仲市淳、中原住雄、久田重善、藤田武良
・機械学会技術情報交流会，大阪府，2004年10月
　　「レーザー直接描画装置による回折光学素子の作製」
　　　川原拓人，仲市　淳，高橋淳一，中原住雄，久田重善，藤田武良
（レーザー学会学術講演会第25回年次大会，2005年1月21日）
　・「レーザー直接描画装置による回折光学素子の作製」
川原拓人，仲市　淳，高橋淳一，中原住雄，久田重善，藤田武良
（2004年度精密工学会関西地方定期学術講演会，大阪府, 2004年7月）
　　「鉛フリーはんだのレーザソルダリング～」
高橋淳一、中原住雄、久田重善、藤田武良：
（第61回レーザ加工学会論文集，p.189, 2004年6月）
　　「Sn-Ag-Cu はんだとSn-Zn-Bi はんだを用いたレーザソルダリング」
高橋淳一、中原住雄、久田重善、藤田武良

（2005年）
（応用物理学会2005年春）　
・「自己組織化ＡＡＯナノホール配列からのＣＮＴの選択CVD成長」
石田　友幸、清水　智弘、Hao-Ting、新宮原　正三
（応用物理学会2005年秋）　
・「無電解めっきにおける添加剤の影響の水晶振動子膜厚計による評価」
　　加藤　敦史, 坂上　弘之, 高萩　隆行, 新宮原　正三
・「リン酸・硫酸混合溶液による陽極酸化アルミナ膜の物性評価」
　　尾形健一、清水智弘、坂上弘之、高萩隆行、萬宏己、中西忠彦、新宮原正三
（ナノ学会第三回大会）（2005）
・「自己組織化ＡＡＯナノホール二次元配列からのＣＮＴの選択ＣＶＤ成長」
石田友幸、清水智弘、新宮原正三
・「陽極酸化アルミナを用いた磁性ナノロッド配列の形成と磁気特性」
　　清水　智弘, 石田　友幸, 徐　軍, 新宮原　正三
（日本機械学会）
・日本機械学会関西支部第80期定時総会講演会講演論文集No.054-1,6-47～48　(2005.3).
　「ホログラフィー干渉法を用いたレーザ集光により発生する水中衝撃波の観測,」
藤井隆行,久田重善,中原住雄,藤田武良
・日本機械学会関西支部第80期定時総会講演会講演論文集No.054-1,11-21～22(2005.3).
「分光法による衝撃波プラズマの電子温度の時間的変化測定」
田代英之,藤田武良,中原住雄,久田重善
・日本機械学会関西支部第80期定時総会講演会講演論文集No.054-1,11-23～24 (2005.3).
　「CO2レーザヘテロダイン干渉計を用いた衝撃波プラズマの電子密度測定」
浅見良和,藤田武良,久田重善,中原住雄:
・日本機械学会関西支部第80期定時総会講演会講演会講演論文集 No.054-1,9-23～42 (2005.3)
「視覚的情報を遠距離に伝えるためのホログラム作製に関する研究」
　　仲市淳, 中原　住雄, 久田重善, 藤田武良, 土谷　隆（オプティコム・リサーチ）,鳥取久治（阪神高速道路公団）
（Optic Japan 2005、11月23日，2005）
・「レーザ直接描画装置を用いたホログラフィック光学素子の作製」23aP3
川原拓, 中原住雄, 久田重善, 新宮原正三, 藤田武良:
・「ホログラムによる大規模再生像の形成」25aG5
　　　土谷隆, 中原住雄, 鳥取久治, 藤田武良
（第10回関西大学先端科学技術シンポジウム講演集）pp.212-215，1月，2006　5
・「レーザ直接描画装置を用いた大型HOEの作製」
川原拓人D, 中原住雄, 久田重善, 新宮原正三, 藤田武良
（2005年度レーザ加工学会63回大会, 2005年5月）
・「鉛フリーはんだのレーザソルダリング～予熱の効果について～」
永徳哲也D、中原住雄、久田重善、藤田武良：

（2006年）
（応用物理学会2006年春）
・「陽極酸化アルミナ・テンプレートを用いたSi基板上でのエピタキシャルCuナノドット配列の形成」　　清水智弘、石田友幸, 尾形健一,坂上弘之, 高萩隆行, 坂田修身, 新宮原正三
（ナノ学会第4回大会）
・「陽極酸化アルミナナノホールを用いた強磁性ナノロッド配列の形成と評価」
西河丞、山下尊史、清水智弘, 石田友幸,新宮原正三　2006年５月19－21日
・「ポーラスアルミナナノホールを用いたCVD成長CNTの直径制御」
河上茂太、石田友幸、清水智弘、新宮原正三　2006年５月19－21日
・「陽極酸化アルミニウムのフォトルミネッセンス特性」
尾形健一, 萬宏己, 中西忠彦, 新宮原正三　　2006年５月19－21日
（電気化学会２００６年秋9月14，15日）
・「陽極酸化アルミナ膜におけるマイクロホールの形成現象」
山下尊史、浮田真司、新宮原正三
・「ゾルゲル法による酸化亜鉛・透明導電膜及びナノ構造作成に向けて」
河上茂太、西河丞、山下尊史、森祐樹、清水陽太、尾形健一、新宮原正三
（日本機械学会）
・日本機械学会関西支部第81期定時総会講演会講演論文集No.064-1,4-14(2006.3).
「ホログラフィー干渉法を用いた水中超音波の強度分布測定について」
西澤正祥,久田重善,中原住雄,新宮原正三,藤田武良:
（Optics & Photonics JAPAN2006　 Extended Abstract, 372～373 (2006.11)）
・「実時間ホログラフィー干渉法を用いた気泡崩壊により発生する水中衝撃波の観測」
松本晋明,久田重善,中原住雄,新宮原正三,藤田武良
・「実時間ホログラフィー干渉法による水中超音波の音圧・強度分布の測定」　
松本晋悟,久田重善,中原住雄,新宮原正三,藤田武良:
・「レーザ直接描画装置を用いた大型回折光学素子の作製」
池元　直, 中原住雄, 久田重善, 新宮原正三, 藤田武良:
（レーザー学会学術講演会第27回年次大会，2007年1月18日）
・「CD-ROM媒体中の薄膜へのレーザマーキング」，
加藤新竝、中原住雄、久田重善、藤田武良、新宮原正三
・「Sn-Zn-Biはんだのレーザソルダリングへの適用について」9pP7
永徳哲也、中原住雄、久田重善、藤田武良、新宮原正三
・「ホログラムによる大規模再生像の形成　～カラー化～」, 9pP45
土谷　隆, 中原住雄, 鳥取久治, 金沢和仁, 藤田武良
（HIMT User Meeting）
中原住雄:「レーザ直接描画装置を用いた大型回折光学素子の作製」, 11月10日，2006
（2006年度精密工学会秋季大会学術講演会論文集（HCD-ROM版）， H15, 2006年9月21日）
・「レーザ直接描画装置を用いた大型回折光学素子の作製」
池元　直、中原住雄、久田重善、藤田武良、新宮原正三

(特許)

・特許公開番号：特開2004-204538 、公開日：2004年7月22日
特許出願番号：特願2002-374367、出願日：2002年　12月25日
発明者：土谷　隆、中原住雄、鳥取久治、北沢正彦
発明の名称：トンネル内における道路標識表示システムおよび道路標識表示方法

・特許公開番号：特開2007-51510、公開日：2007年　3月1日
特許出願番号：特願2005-238850、出願日：2005年　8月19日
発明者：土谷　隆、中原住雄、鳥取久治、北沢正彦
発明の名称：道路標識表示システムⅡ

・特許公開番号：特開2005-226333、公開日：2005年　8月25日
特許出願番号：特願2004-36197、出願日：2004年　2月13日
発明者：土谷　隆、中原住雄、鳥取久治、北沢正彦
発明の名称：道路標識表示システムⅠ

・出願番号：2006-058140 　出願日：2006年3月3日
発明者：新宮原正三、尾形健一、萬宏己
出願人：財団法人　大阪産業振興機構
名称：規則化ナノホール構造を有するアルミニウムの製造方法

・名称：多孔質ナノ構造体及びその製造方法
出願番号：2007-61921　出願日：2007年3月12日
発明者：新宮原正三、尾形健一、萬宏己
出願人：財団法人　大阪産業振興機構